MIPC1000多功能等离子清洗仪,专门针对SEM/TEM等各类表面/微观分析设备开发,能够有效去除样品/样品杆表面污染物,防止碳沉积带来图像分辨率降低及对样品微区成分分析造成误判,同时可改善样品表面亲水性。该系统配备7英寸超大清洗样品杆,同时清洗多个样品,利用快旋头设计,可满足SEM/FIB/EPMA/SIMS/XPS/TEM等各类真空腔体清洗,提升仪器分析准确性。
MIPC1000多功能等离子清洗仪最多可配备四路气体进气系统,搭配高精度质量流量计(MFC),可实现任意比例气体混合,从而实现不同工艺气体清洗需求。通过配备的7英寸触屏控制系统,能够实现清洗配方的建立和存储,可实现一键完成样品清洗。Downstream过滤电场能够过滤传统等离子体中离子/电子成分,仅利用低能自由基进行清洗,能够去除溅射损伤、热效应及刻蚀效应对样品微观结构和成分的破坏。满足各类真空设备样品/样品舱清洗,同时可对电镜光阑、各类真空部件进行清洗,满足各种清洗需求。
技术优势
◆多功能:具备在线腔体清洗和独立清洗功能;
◆高效性:ICP诱导激发,清洗范围广;
◆超高真空清洗:<5mTor~2Tor;
◆清洗功率范围大:0-100W;
◆清洗柔和:Downstream设计,无溅射效应,无热效应;
◆可同时清洗/存储两根透射电镜样品杆;
◆扩展性好:采用快旋头,等离子发生器,可轻松对各类真空腔体进行清洗;
◆超大清洗样品舱:直径7英寸X7英寸高;
◆能够碳膜清洗,增加增加碳膜亲水性;
◆触屏控制:7英寸触屏,配方式操作。
主要应用
◆FIB/SEM/TEM/Nano Probe
◆XPS/GC/SIMS
◆Synchrotron Radiation
◆各类真空腔体清洗
◆各类分析设备样品清洗
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https://www.chem17.com/st645752/product_38954576.html
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