一、V2MS17-真空氧化炉基本原理与特点
1. 基本原理
真空硅钼棒炉为气体保护多用途炉，可满足在还原气体或成型气体气氛中对蓝宝石退火，还原、烧结和表面处理等工艺需要，广泛应用于航空航天、金属材料、粉末冶金、陶瓷产品、半导体器件、厚膜电路、磁性材料等领域。
2.设备特点
1）具备完善的报警功能，更的安全连锁保护系统；
2）完善的气氛控制系统，满足各种工艺需要；
3）高性能优质电气元件保证设备长期运行的稳定可靠性；
4）低负荷加热器，可有效提高设备的使用寿命。
二、V2MS17-真空氧化炉主要技术参数
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编号 |
V2MS17 |
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产品型号 |
VHSms-20/20/30-1700 |
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最高设计温度（ ℃ ） |
1700 |
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加热元件 |
硅钼棒 |
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加热功率（kW） |
12 |
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冷态极限真空度（ Pa ） |
6.7x10-2Pa（空炉、冷态、经净化） |
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测温元件 |
钨铼热电偶 |
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升温速率 |
1~10℃/min |
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温度均匀性 |
±5℃（5点测温，恒温区1000℃保温1h后检测） |
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炉膛尺寸（mm） |
200x200x300（WxHxD） |
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可充气氛 |
氮气/氩气一路 |
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设备外形尺寸（ mm ） |
1425x1550x1850mm(DxWxH) |
https://www.chem17.com/st142087/product_38144220.html
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